石英坩埚
1．石英坩埚可在1650度以下使用，分透明和不透明两种。用电弧法制的半透明石英坩埚是拉制大直径单晶硅，是发展大规模集成电路必不可少的基础材料。当今，世界半导体工业发达国家已用此坩埚取代了小的透明石英坩埚。它具有高纯度、耐温性强、尺寸大、精度高、保温性好、节约能源、质量稳定等优点。2、不能和HF接触，高温时，极易和苛性碱及碱金属的碳酸盐反应。3．石英坩埚适于用K2S2O7，KHSO4作熔剂熔融样品和用Na2S207(先在212度烘干)作熔剂处理样品。4．石英质脆，易破，使用时要注意。5．除Hf外，普通稀无机酸可用作清洗液。
瓷坩埚
1．可耐热1200度左右使用2．适用于K2S2O7等酸性物质熔融样品。3．一般不能用于以NaOH、Na2O2、Na2CO3等碱性物质作熔剂熔融，以免腐蚀瓷坩埚。瓷坩埚不能和氢氟酸接触。4．瓷坩埚一般可用稀盐酸煮沸清洗涤。
性能特点：
       严格按照清洗、干燥、包装程序，保证坩埚的高纯度，无污染
　   采用高温熔制涂层工艺
　   适用拉制低氧碳大直径硅单晶
　   热稳定性好，能在高温下连续长时间工作
　   高温下不形成方石英颗粒，易于拉晶控制，性能稳定
　   拉晶过程中，无软化、漏硅和塌边现象，无高温开裂鼓泡现象
　   保证拉晶过程的低氧含量及微缺陷，正品率高
　   不产生棕色环，具有很高的无位错比
　   具有良好的抗析晶性能
　   产品材料:进口高纯度石英砂，纯度达到99.9985%以上